鈣鈦礦自動涂膜機生產 返回列表頁

AT-TB系列涂布試驗機由山東安尼麥特儀器有限公司精心研制的，用于涂料，膠水，熱熔膠，導電材料，納米材料，包括水凝膠、液態金屬、智能包裝材料、光電材料、光刻膠、功能涂層、微電子及半導體封裝等大面積涂布制備，以及氫燃料電池膜電極、電解水制氫膜電極、鋰電池、各種活性催化劑、異質結太陽能電池、薄膜太陽能電池、鈣鈦礦太陽能電池、有機太陽能電池、OLED柔性穿戴器件、有機場效應晶體管,導電聚合物,納米線和納米管,二維材料,有機發光二極管和鈣鈦礦發光二極管、鈣鈦礦光伏電池、鋰離子電池的電解質和電極、染色敏感性太陽能電池、電子皮膚等器件的制備。

  由于影響涂膜的主要因素有涂布速度以及施加在涂膜器上的壓力等，因而由人工涂出的涂層經常出現不一致，尤其是不同人之間產生的差異就更大了，這就給比較樣板之間的測試結果帶來了困難。本款涂布試驗機自動涂布，涂布速度可調，涂布壓力量化可調。從而在根本上解決了，手工涂布的缺點。可以涂布出重復性好，涂膜厚度準確的濕膜。從而為對涂層的各項指標測量與研究提供了穩定的涂層試樣。 

1.主機技術參數

1.1機器類型：平板式

1.2涂布方式：線棒/四面刮刀/可調刮刀/狹縫刮刀 （可選配）

1.3涂布速度：1-2000mm/min  任意設定    

1.4有效涂布尺寸：300×400mm；

1.5系統：涂布機測試系統

1.6試樣夾持方式：真空吸附/無紡布夾具/機械夾子  

1.7加壓方式：砝碼垂直加壓/杠桿加壓

1.8控制方式：觸摸屏

1.9平臺材質：模具鋼/玻璃平臺/真空吸附平臺/大理石平臺

1.10模具鋼平臺處理：淬火處理+鏡面精磨+化學鍍

1.11模具鋼平臺平整度：±2.5微米（有效寬度300mm內，有效長度400mm內，加熱溫度200度以內）    大理石平臺平整度：±0.8um (不可加熱）

1.12機殼材質：整體304不銹鋼 

1.13傳動系統：雙滑道+滾珠絲杠+同步帶

1.14外形尺寸：650X400X400mm

1.15主機使用電源：220V/50Hz  功率 180W

產品特點

1. 底板平整度高，平整度小于3微米，成膜均勻性小于1微米，充分保證了涂布的均勻性和一 致性。

2. 特殊設計傳動結構，運行平穩無振動。

3. 模塊化組合安裝可以實現多種平臺與涂布方式的組合。